PLATEC化學鎳 CN-851M/A/B/C/D

一. 系統簡介:

CN-851 是一種化學鎳磷合金鍍液,具有良好的啟鍍能力及優異的浴安定性,鍍層皮膜磷含量穩定,結晶緻密而且耐蝕性優良。內部張力低,外觀良好,配合自動添加器及析出防止裝置的使用,可以得到一定的析出速度及均一之鍍層,有利於自動化生產。滿足客戶在焊錫性、打線性能、低表面電阻等多項功能要求。

二. 使用方法:

1、建浴標準 :

CN-851M : 150 ml / L CN-851A : 50 ml / L(46—50mL/L) CN-851D : 4 ml / L 建浴時,請使用純水配槽。

2、操作條件 :

溫 度:82 ℃ (80 ~ 84 ℃)
時 間:20分鍾 (10 ~ 30 分鐘)
槽 材 質:使用 SUS 316 材質
加 熱 器:石英或鐵氟龍加熱器或水浴法間接加熱
過 濾:5 ~ 10 µm PP 濾心,10 turn-over / hr,溢流過濾法
攪 拌:氣缸振動或上下機械擺動
水 洗: 3 段水洗
其 他:自動添加器及析出防止裝置

3、沉積速度 : 6~10 µ” / min

4、鍍層磷含量 : 6% ~ 10%

5、槽液維護 :

1) 固定添加:(按照鎳濃度分析添加比例:A:B:C:D= 1:1:1:0.4) 依實際析鍍之有效面積及平均析出速度計算鎳之析出克數。 每析出 1 g 鎳添加 CN-851A 10 ml CN-851B 10 ml CN-851C 10 ml CN-851D 4 ml 表面積單位換算析鍍面積比析鍍厚度單位換算化學鎳密度 析出鎳 ( g / m 2 ) = 2 m 210 4 cm 2154 µm10 -4 cm7.9 g m 2100 µmcm 3
2) 分析校正: 依照 “化學鎳 CN-851 分析方法”分析校正
3) 換槽標準: 4 turn-over 換槽